. Electron microscopy; proceedings of the Stockholm Conference, September, 1956 . Fig. 2. Zerstorung einer 100 A dicken Silberaufdampfschicht auf SiO-Unteriage durch Tempern im Vakuumofen. Linke Spalte: unbedeckte Schichten; oben: nach Tempern auf 200 C; unten: auf 500'C. Rechte Seite: Schichten mit einer im Elektronenmikroskop entstandenen Kohlebedeckung: oben: nach Tempern auf 200 C; unten: auf 500 C. kungen bei den Veranderungen im Elektronenmikro- skop gezogen werden. Fig. 2 zeigt in der linken Spalte 5/7/)t^raufdampf- schichten, die vor der elektronenmikroskopischen Aufnahme einer kurzzei


. Electron microscopy; proceedings of the Stockholm Conference, September, 1956 . Fig. 2. Zerstorung einer 100 A dicken Silberaufdampfschicht auf SiO-Unteriage durch Tempern im Vakuumofen. Linke Spalte: unbedeckte Schichten; oben: nach Tempern auf 200 C; unten: auf 500'C. Rechte Seite: Schichten mit einer im Elektronenmikroskop entstandenen Kohlebedeckung: oben: nach Tempern auf 200 C; unten: auf 500 C. kungen bei den Veranderungen im Elektronenmikro- skop gezogen werden. Fig. 2 zeigt in der linken Spalte 5/7/)t^raufdampf- schichten, die vor der elektronenmikroskopischen Aufnahme einer kurzzeitigen Erhitzung unterworfen waren. Auf Grund von Adsorptionsschichten auf der Unterlage und der Schicht selbst besitzen die Atome an den Oberflachen der Silberpartikel eine so groBe Beweglichkeit, daB sich die Teilchen bei den Erhitzungen auf die angegebenen Temperaturen be- reits vollstandig abgerundet haben. Ganz anders verhalten sich Praparate, die schon vor dem Tempern dem Elektronenstrahl ausgesetzt waren, also mit .,Kohle" iiberdeckt waren (Fig. 2, rechte Spalte). In diesen Fallen vermag die Kohle die morphologische Schichtstruktur noch bei 200'C praktisch vollstandig zu schiitzen. Bei hoheren Tem- peraturen tritt dagegen eine vermehrte Aggregation der Silberschicht zu groben Klumpen ein. Es sieht so aus, als ob jetzt durch die Kohlebedeckung eine weitere Lockerung der Atome an den Oberflachen der Silberpartikel verursacht wird, die sich in einer gesteigerten Beweglichkeit dieser Atome auswirkt. Fijr die Moglichkeit einer solchen Herabsetzung der Bindungsfestigkeit der Oberflachenatome gegenuber dem Kristallgitter spricht auch die Tatsache, daB selbst in den durch die Bedeckung geschutzten


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