. Electron microscopy; proceedings of the Stockholm Conference, September, 1956. Electron microscopy. 80 HANSZEN B.«t-<4.~ia ^'St%^v '. Fig. 1. Locherbildungen in einer SiO-Tragerfolie durch Reaktion mit Kupferoxyd (obenj und mit Eisen (unten) bei hohcn Bestrahlungsintensitaten. diesem Grunde kommt z. B. der Temperaturbestim- mung im Elektronenmikroskop durch Beobachtung von Schmelzprozessen und anderen thermischen Um- wandlungen nur ein beschrankter Anwendungsbe- reich zu. Ein Beispiel fiir eine Reaktion mit der UnterJage stellt die in Fig. I a wiedergegebene Zerstorung einer SiO-Tra
. Electron microscopy; proceedings of the Stockholm Conference, September, 1956. Electron microscopy. 80 HANSZEN B.«t-<4.~ia ^'St%^v '. Fig. 1. Locherbildungen in einer SiO-Tragerfolie durch Reaktion mit Kupferoxyd (obenj und mit Eisen (unten) bei hohcn Bestrahlungsintensitaten. diesem Grunde kommt z. B. der Temperaturbestim- mung im Elektronenmikroskop durch Beobachtung von Schmelzprozessen und anderen thermischen Um- wandlungen nur ein beschrankter Anwendungsbe- reich zu. Ein Beispiel fiir eine Reaktion mit der UnterJage stellt die in Fig. I a wiedergegebene Zerstorung einer SiO-Tragerfolie durch ein Kupfer(I)Oxydpraparat dar, die bei hoheren Bestrahlungsintensitaten ein- tritt. Wiihrend der Reduktion des Oxyds im Elek- tronenstrahl reagiert dieses unter Locherbildung mit der Unterlage. Da iihnliche Erscheinungen auch nach Tempern im Vakuumofen, hier allerdings erst iiber 900'C, d. h. nach vollstandiger Reduktion des Oxyds zu Kupfer beobachtet wurden, liegt es nahe, auch im Elektronenmikroskop einen hauptsachlich durch dicTemperaturerhohungbedingten Reaktions- ablauf anzunehmen, der jedoch durch quanten- bedingte Ursachen friiher in Gang kommen kann, als auf Grund der pauschalen Temperaturerhohung des Praparats zu erwarten ist. Ein weiteres Beispiel fiir die Locherbildung in einer SiO-Unterlage durch Reaktion mit dem Praparat zeigt die Fig. 1 b. Hier haben verdampfende Eisenkiigelchen die Tragerfolie auf ihrem Weg angefressen. Von weitaus groBerer Bedeutung ist der EinfluB der erwahnten „\\W-Bedeckiingen auf die Prii- paratveranderungen. Ihre Mitwirkung bei den tem- peraturbedingten Umwandlungen wurde durch Va- kuumtempern von Objekten ermittelt, die im Elek- tronenstrahl oder durch Bedampfen mit einer Kohle- deckschicht versehen waren. Durch Vergleich der nach den Erhitzungen im Ofen beobachteten Ver- anderungen mit den im Elektronenmikroskop durch die Elektronenbestrahlung hervorgerufenen Schaden konnten Ruckschlusse auf den EinfluB der Bedek-. Pl
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